半导体镀膜工艺是什么 半导体八大工艺步骤

问答锦集2022-09-12 16:01:33

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光刻是曝光,把提前做好的电路图图样曝光在半导体硅片(上面的一层化学材料)上。刻蚀是把曝光的电路图刻(化学蚀刻)出沟槽来。然后把沟槽该修整修整,该镀膜镀膜,该渗入离子什么的通通整利索以后,在沟槽里注入铜,磨平。就相当于在半导体材料上做好电路了。芯片的最最主要工作也就完成了。

半导体镀膜工艺是什么 半导体八大工艺步骤

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