光刻机正胶和负胶 光刻机唯一上市公司苏大维格

光刻机的小秘密

光刻机，这名字听起来像是某种高科技的魔法棒，实际上它确实是半导体制造中的超级英雄。它的任务是利用光线在硅片上雕刻出复杂的电路图案，就像是用激光笔在黑暗中画出闪亮的星星。而在这个过程中，正胶和负胶就是它的得力助手。正胶和负胶，听起来像是某种神秘的化学物质，其实它们就是光刻机用来“拍照”的底片。

正胶：光明磊落的小助手

正胶是个光明磊落的家伙，它喜欢光线。当光刻机的光线照射到正胶上时，它会变得可溶于特定的化学溶液中。这意味着，被光线照射到的地方会被洗掉，留下的是没有被照射到的地方。这就好比你在沙滩上用沙子堆城堡，然后用海水冲刷掉一部分沙子，剩下的就是你想要的城堡形状。正胶的这种特性使得它在制造微小的、精细的电路图案时非常有用。

负胶：黑暗中的守护者

与正胶相反，负胶是个喜欢黑暗的家伙。当光刻机的光线照射到负胶上时，它会变得更加坚固，不易被溶解。这意味着，被光线照射到的地方会变得更难洗掉，而没有被照射到的地方则会被洗掉。这就像是你在沙滩上挖了一个洞，然后用沙子填满它，再用海水冲刷掉周围的沙子，留下的就是那个洞的形状。负胶的这种特性使得它在需要制造大面积、连续的图案时非常有用。

两者的较量：谁更胜一筹？

正胶和负胶各有千秋，它们在不同的应用场景中都有自己的优势和劣势。正胶在制造精细图案时表现出色，但处理大面积图案时可能会有些吃力；而负胶在大面积图案的处理上得心应手，但在精细度上可能稍逊一筹。这就好比是两个不同的艺术家，一个擅长画细节丰富的肖像画，另一个则擅长画宏伟壮丽的风景画。在实际应用中，工程师们会根据具体的需求来选择使用哪种“画笔”——正胶还是负胶。