中芯国际光刻机是几纳米的 中芯国际为什么上二休二

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国产芯片为什么那么难？国产光刻机，到那一步了？比如，我们听到华为芯片5纳米，中兴通讯研发出了5纳米芯片。但是注意，是设计出了5纳米芯片，并不是能产5纳米芯片。在大陆，芯片生产最为领先的是中芯国际，但是只能生产到14纳米。原因就是没有EUV光刻机。EUV光刻机，全球只有荷兰的阿斯麦能产，市

中芯国际已经早几年就用阿斯麦的光刻机量产14nm芯片了。海思的麒麟710A就是中芯国际的14nm工艺。现在再谈国产14nm，不敢说全国产，但起码是去美技术的了。/2020年初，中芯国际已经给海思生产过14nm芯片，就是麒麟710A，用在包括荣耀play4t上的机型，只是还有美国技术。你觉得2022

又有三个好消息传来，都和中国有关第一个好消息：被尘封三百多天的华为麒麟芯片终于要迎来了重生。依托上海微电子第四代浸式光刻机，华为和中芯国际联合成功研发叠层14纳米新工艺并且全国产量化。 这意味麒麟芯片能用14纳米的工艺做出5纳米EUV9000的性能。虽然还不能真正量产5纳米制程的芯片，但是华

完全国产且不受美国任何限制的芯片生产只有上海微电子的90纳米光刻机，中芯国际能生产28纳米但还是不能提供给华为等企业。上海微电子继续加紧努力啊

我国半导体产业迎来曙光！中芯国际跟光刻机巨头阿斯麦已签购买订单，中芯国际预计花费77亿元向阿斯麦购买设备、零配件及服务。那么中芯国际这一次采购的设备能够实现多少纳米制程工艺呢？我们根据36氪提供的消息可以得知。1、能用于制造14nm工艺芯片。也就是说大概率不可能是最先进的EUV光刻机，而是DUV

国产芯片不需要EUV光刻机，也可以达到5nm 工艺。这话是台积电的技术大牛说的，他说台积电在没有 EUV光刻机的情况下就能量产7nm工艺，量产5nm也是可行的，不过制造成本很高，多重光刻难度很大，只有在不得已的情况下才会这样做。所以说，中芯国际也能做到 5nm工艺。只是这话相当于白说，那么高的成

14纳米芯成熟的条件：国产28纳米光刻机成熟+中芯国际的14纳米流片成熟+国产厂商像支持京东方一样支持……14纳米成熟的话，后续的7、5纳米就只是时间问题。大家也要明白：芯片生产产业链没有弯道超车一说，只有时间+人才+产业统筹+国内企业支持。

中国光刻机突破7纳米 中国光刻机突破7纳米，追平世界先进只差一步据媒体报道消息，中芯国际前不久宣布其使用的DUV光刻机，通过自研的N+1技术实现了“准”7nm芯片制造。这意味着中芯国际已经有能力制造，韩日芯片企业制定标准下的7nm芯片。这里指拥有的是芯片制造能力，而不是光刻机的制造能

中芯国际：14纳米达量产水准有进步，但是同时我们还得人清现实。距离5nm～7nm的芯片制造，还有一定差距。1.高端设备开发:还是依赖ASML的光刻机2.上游原材料：光刻胶3.芯片设计：华为有自主设计芯片，4.另外就是制造业的发展水平，

中芯国际(00981)大家猜猜28nm光刻机目前是怎样的情况？1.小规模量产，可商用，跟国外光刻机相比有差距；2.样机，能生产28nm芯片，但商用盈利能力差，继续在商用产线验证；3.有样机，仍在调试，没有出厂；4.研发阶段，还没成型样机。